大学研究開発　実験用小型スパッタリング成膜装置

SNTEK, Inc.

大学･研究開発･実験用小型スパッタリング成膜装置

型式：MSS4000

大学、研究、開発、実験等に最適な、小型スパッタ装置

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･初期設備投資額を大幅低減　（国内他社製装置の50-80％)

・完全フルオートソフトにより、ボタンひとつで完全自動生産。完了時アラーム通知。もちろんマニュアル操作も可能

･客先要求仕様に応じ、チャンバーサイズ、ソース数、等を個別設計可能

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･基板サイズ : 4インチ

･ガンタイプ : スパッタアップ、スパッタダウン、客先仕様により設定可能,

･膜分布 : < ±5 % 【4インチエリアの場合】

･基板温度 : 最大 600 ℃

･加熱均一性 : <±5 % 【4インチエリアの場合】

･基板回転速度 : 5～20RPM

･Z-motion Unit 【ターゲット-基板間距離 : 50～100㎜】

･ポジションセンサー【サンプルローディング/アンローディング及び T/S 距離調整機能】

･DC パワーサプライ： 1kW, RFパワーサプライ： 600W(13.56MHz)

･3種のターゲットソース搭載可能, RF 1基, DC 2基

･ロードロックシステム (オプション)

･PCもしくはPLCを用いた、タッチパネル方式のフルオートメーションシステム

註1：上記は例であり、チャンバーサイズは、客先の要求コーティングエリアに応じ、カスタムで設計します。

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・Pt, Ti, Cu, Al, 等の金属膜
･ZnO,AZO,GZO,TiO2,SiO2等の酸化膜

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・半導体フィールド向けの金属膜、酸化膜の成膜

･光学フィールド向けの反射防止膜

･薄膜トランジスタ用メタルコンタクトの成膜

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PRムービー SNTEK製品案内

新商品一覧　弊社指定内示書　

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御見積：
以下へご連絡ください。貴社仕様に合わせて御見積致します。その際に、御支払い方法、設置場所等をご相談させて頂きます。

サンプル試作：
基板を頂戴しましたら、貴社仕様をもとにサンプルコーティングさせて頂きます。通常基板をお借りして２週間以内に御戻しできます。
立会いを希望される場合には、その旨お知らせください。

納期について：
納期は、搭載するオプションにもよりますが、通常御注文請け後４ヶ月程度頂いております。

据付設置について：
当方で、貴社指定場所まで搬入し、設置致します。

トレーニングについて：
操作方法についてのトレーニングは、据付完了後、行います。

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情報機器部　第一課
担当：樋口
電話番号：03-5472-1722　FAX:03-5472-1720
E-maiｌ:　こちらをクリック
住所：〒105-0001　東京都港区虎ノ門3-8-21　虎ノ門33森ビル4F

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