SNTEK, Inc.
大学･研究開発･実験用小型高速熱処理装置
RTP5000 series
大学、研究、開発、実験等に最適な、小型RTPシステム
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特徴

･本RTP装置は、特に大学や研究所向けの専用機として開発いたしました。
･最大６インチのウエハーまで処理可能です。
･少量生産であれば、本機種でも対応かのうかと存じます。
･本装置は、簡単にそして正確に温度コントロール致します。
･基板温度や圧力等、ヒーティングによる効果を正確にデータベースに残します。

仕様

Sample Size : 6inch
Gas Flow Rate is Displayed on the LCD Monitor using Analog Signal
Heat Source : Halogen Lamp
Max. Temperature : 1000 ℃
Process Temperature Range : 200 ℃ ~ 900 ℃
Heating Uniformity : <± 5 % in 6inch Area
Ultimate Pressure : <5×10-2 Torr
Atmospheric & Vacuum Process are Possible.
All System Control using Pentium 4 Industrial Computer & 17" LCD Monitor
** Temp. PID Control is Possible using Labview Software automaticall

註1：上記は例であり、客先の要求仕様に応じ、カスタムで設計します。

application

RTA, RTO
Diffusion, Nitridation, Silicidation
Crystallization, Densification
Implant Quality Control.

資料とリンク


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御注文方法

御見積：
以下へご連絡ください。貴社仕様に合わせて御見積致します。その際に、御支払い方法、設置場所等をご相談させて頂きます。

サンプル試作：
基板を頂戴しましたら、貴社仕様をもとにサンプル試作させて頂きます。通常基板をお借りして２週間以内に御戻しできます。
立会いを希望される場合には、その旨お知らせください。

納期について：
都度、ご連絡させて頂きます。

据付設置について：
当方で、貴社指定場所まで搬入し、設置致します。

トレーニングについて：
操作方法についてのトレーニングは、据付完了後、行います。

お問合せ

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情報機器部　第一課
担当：樋口
電話番号：03-5472-1722　FAX:03-5472-1720
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