SNTEK, Inc.
大学・研究開発・実験用 小型OLED成膜装置
FLEX5002 series
国産機の、50-70%の初期投資額で導入可能です。

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特徴

装置構成が、クラスタータイプになっており、一台で、蒸着 + スパッタ + パレリン + グローブボックス + ロードロックのチャンバーを持っています。大学、研究所、企業の研究開発での有機EL膜開発に最適です。

仕様

Substrate : Max.100×100 glass, 4inch wafer
Tact time : 20~80min- Depends on the number of mask
Loading Capacity : Glass 1 sheet, Mask 4 sheet
Transfer Method : Vacuum Robot
Substrate rotation in process
Vacuum Performance : Deposition < 2E-7Torr
Plasma Treatment : Optional
Alignment accuracy : Mechanical, less than ±50um
Evaporation Source for organic(5ea) : 10cc for host, 4cc for dopant
Evaporation source for metal(2ea) : Thermal source, E-Beam is optional
Deposition uniformity : Organic, Metal, sputter less than ±3%
Max. deposition rate : organic 5A/sec, metal 10A/sec
Rate Accuracy : organic ±5%, Metal ±7%
Thickness reliability : Organic & Metal ±5% glass to glass
Doping ratio less than 1% at 1A/sec of host
Conductive Oxide : Low damage sputtering(FTS or general sputter)
Thin Film Passivation : Parylene coating & inorganic coating
Glove Box : H2O, O2 less than 0.1ppm
Fully automation System(Option)

註1:上記は例であり、客先の要求仕様に応じ、カスタムで設計します。

application

PMOLED, AMOLED on glass & wafer Mono/Area/Full Color Lighting

資料とリンク


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担当:樋口
電話番号:03-5472-1722 FAX:03-5472-1720
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