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利点 |
・スパッタ成膜用、アークイオン成膜用の前処理として、イオン化率90%以上のホロカソード(HCD)でのエッジング/ボンバーディングが可能。それにより高密着度、高表面平滑度を実現 【標準】 ・ワンチャンバーに、ホロカソード(HCD)、アークイオンガン、スパッタガンの3ソースを搭載可能且つ、それぞれで独立成膜可能な為、開発機に最適 【オプション】 ・基板用バイアス電源として、DC電源とRF電源を切り替えられる為、DLCのコーティングにも対応可能【オプション】 ・完全フルオートソフトにより、ボタンひとつで完全自動生産。完了時アラーム通知。もちろんマニュアル操作も可能。タイマー機能の搭載も可能【オプション】 ・貴社の要求仕様に応じ、チャンバーサイズ、ソース数、バッチ式、インライン式等を個別設計可能 ・他社製装置の50-80%の設備投資で導入可能 |
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成膜方法 |
ホロカソードアシスト式アークイオンプレーティング法 or ホロカソードアシスト式スパッタリング法 |
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コーティング膜種 |
TiN, TiCN, TiAlN, ZrN,
DLC, CrN 等 |
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用途 |
自動車、工具、電子部品、装飾品等のハードコーティング |
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特徴
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● IEGD(Ion Enhanced Glow
Discharge) 方式の採択で高界面密着力 |
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● 高い薄膜密着率 Arc >
Sputter > E/B |
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● HCDにより、90 %以上のイオン化率 |
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● 高エネルギーのイオン蒸着 (60-100eV) |
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試作
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ご評価用に、初回のみ無償でコーティングさせて頂きます。
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メーカーH.P
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詳細資料
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資料_バッチ式 | |||||||
資料_インライン式 | |||||||
iAシリーズ | |||||||
iBシリーズ :【新製品】大面積イオンドーピング装置 | |||||||
HCDとアークイオンソース | |||||||
価格表【概算】 【パスワードは以下へお尋ねください。】 | |||||||
リンク |
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お問合せ先 (代理店) |
情報機器第一部 第一課 樋口 朝暁 TEL:(03)5472-1722 FAX:(03)5472-1720 E-mail:問い合わせ |