SNTEK, Inc.
大学･研究開発･実験用小型電子ビーム蒸着装置
MEP5000 series
大学、研究、開発、実験等に最適な、小型EB蒸着機
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特徴

MEP5000　高精度電子ビーム蒸着装置は、正確なライン幅を要求されるパワーIC、LEDデバイス、MEMS等のリフトオフ及び絶縁処理プロセスにも利用可能なバッチ式装置です。

仕様

Sample: Si wafer, Sapphire wafer etc.
Sample Size & Capacity: Max. 6inch×12pcs
High Vacuum Pumping (Cryo + Rotary)
- Ultimate Pressure: 1×10-6 Torr within 30 minutes
Substrate Heating
- Max. Temperature: 200 Degree on the sample surface
Substrate Rotation & Revolution
- Self rotating dome (1ea) - Planetary rotating dome (3ea)
- Easy exchangeable dome
- RPM Control: 10~50RPM
Electron Beam Source with Power supply
- 25cc crucible × 6ea
- 10kW Power supply
Fully Automation Control System using PC interfacing
Deposition Material : General Metal & Oxide
Selective Processing
- Lift Off Process & conformal process
Film Uniformity : <±5% for WIW, WTW and RTR
Multi Layer(6layer) Evaporation Process Available

註1：上記は例であり、客先の要求仕様に応じ、カスタムで設計します。

application

パワー IC
LED デバイス
MEMS
電磁波防止膜形成
反射防止膜形成

資料とリンク


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御注文方法

御見積：
以下へご連絡ください。貴社仕様に合わせて御見積致します。その際に、御支払い方法、設置場所等をご相談させて頂きます。

サンプル試作：
基板を頂戴しましたら、貴社仕様をもとにサンプル試作させて頂きます。通常基板をお借りして２週間以内に御戻しできます。
立会いを希望される場合には、その旨お知らせください。

納期について：
都度、ご連絡させて頂きます。

据付設置について：
当方で、貴社指定場所まで搬入し、設置致します。

トレーニングについて：
操作方法についてのトレーニングは、据付完了後、行います。

お問合せ

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情報機器部　第一課
担当：樋口
電話番号：03-5472-1722　FAX:03-5472-1720
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