高密度プラズマ発射ユニット
～　Plasma Quest Limited　～
ターゲット使用効率を95%にまで引き上げます
  主な技術仕様
情報機器部　第一課　TEL:03-5472-1722 / FAX:03-5472-1720
担当：樋口　E-mail:　問い合わせ
特　　徴
【写真】6㎜厚　コバルトターゲット
【写真】ユニット搭載機　S400
【写真】　高密度プラズマ発射ユニット
26mA以上 （at Φ100mm ターゲット）
イオン密度
1013 / cm3以上
プラズマ密度
2.5Kw～5Kw
RF電源
L570㎜ｘΦ420㎜
寸法
既存の装置に搭載可能
改造
ポイズニング無しでハイレートスパッタ
反応性スパッタ
厚いCr,Ni, Fe, Co 等のターゲットを効率的にスパッタ
強磁性ターゲット
プラスチック基板等の熱に弱い基板に対して有効
低温スパッタ
最大95%
ターゲット使用効率