複合型PVDコーティング装置
〜 ISYS社 〜
仕様に応じて、チャンバー寸法、ソース数等を設計します
情報機器部 第一課 TEL:03-5472-1722 / FAX:03-5472-1720
【写真】 HCD搭載スパッタ装置
HCDプレクリーニングで高界面密着力 を実現
IEBG方式
ドロップレットの低減
シャッター＆2重シールド方式
ＴｉＮ,ＴｉＣＮ，ＴｉＡｌＮ、CrN 等
適用膜
ＡＩＰ【アークイオン】 + HCD【ホロカソード】
Hybrid 方式
UBM + HCD
Hybrid 方式
遠距離基板へ成膜
UBM 方式
Erosion ( 40% )
高効率カソード
DLC, MoS2 ,TiAl,
TiAlN, TiN, CrN 等
適用膜
高界面密着力
IEBG方式
【写真】 HCDイオンプレーティング装置
【写真】 HCD搭載アークイオンプレーティング装置
【写真】 HCD搭載AIP装置内部
異常放電が低減
W補助電極方式
〜300A
大電流広幅電子線
TiN、TiCN等
適用膜
自己エラー診断完全自動化工程
プログラム
【リンク集】